半导体含氟废水怎么处理方法|半导体含氟废水处理案例
投资项目经验
该客户的专业产出半导体器件用高纯氟化氢和六氟化钨,电镀废水氟氨水浓度越高且基本成分有难度。本身清理工学院艺使用效果不不稳,氟化物废气排放时不时超量。活动股权投资2五百万元建造特别清理体系,设计清理性能500吨/天。
废水处理工艺营养成分及特征
废水处理主要是产自制造仪器的洗涤剂和尾气洗涤剂:
氟阴阳离子有机废气浓度:1500-3500mg/L
含氢氧化钾根铁离子:2000-5000mg/L
pH值:1-
含进样器钨、钼等材料因素
办理加工过程流量
而对较高浓度值特殊性,选用"与+三级放置+膜清理"生产技术:
废液收录池:几大类收录多种溶度废液
采和不起作用池:分关键时期加药系统氢防氧化的钠和氢防氧化的钙,管控既定pH至7.5-8.
水解酸化池症状池:污泥脱水PAC和PAM提高石雕文化沉淀效果好
斜管悠长岁月中池:科学规范固液分离处理
多媒质过虑器:弄掉微小粒状
反渗透装置性系统软件:深度的脱盐和除氟
飞灰提液脱干软件系统:离心式脱干后飞灰土石方工程职业加工
在线上摄像头系统性:实时摄像头摄像头氟阴阳离子浓硫酸浓度和pH值
结果是效用
外理平台操作统计数据:
漏电氟化合物平均值溶度:2800mg/L
水流氟阳离子有机废气浓度:3.2mg/L(峰值)
氟清除率:99.9%不低于
水回收利用率:可达65%
系统软件自动式化因素高,体现电镀废水除理成本投入影响30%,年回收并氟化钙副设备约400吨。